3月初，由泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）自主研发的光刻系统，正式被纳入俄罗斯国家工业信息系统（GISP），同步列入国家工业设备目录，成为该国半导体制造自主化的重要里程碑。这款型号为RAVC.442174.002TU的光刻设备，是俄罗斯首款自主研发的对准投影式光刻机，专为超大规模集成电路（VLSI）生产设计，核心实现350nm分辨率光刻能力，标志着俄罗斯正式搭建起自主可控的微电子制造核心装备体系